Mitglieder- und Anbietersuche

Fraunhofer-Institut
f. Mikroelektron. Schaltungen und Systeme IMS

Finkenstr. 61
47057 Duisburg
Deutschland
Telefon+49 203 3783-0
Fax+49 203 3783-266

Entwurf und Fertigung kleiner und mittlerer Stückzahlen von analog/digitalen Schaltungen; Mikrosysteme mit integrierten Sensoren und Aktoren; SOI-Technologie auf SIMO für Smart Power und Hochtemperaturelektronik; µC Cores in VHDL; Transpondersysteme mit integrierter Sensorik; Mikroprozessorsysteme; Hochtemperaturelektronik.

Angebotsspektrum

S.02.03 Resistives Sensorelement

S.02.04 Piezoresistives Sensorelement

S.02.41 CCD-System, CMOS-System

D.01.01 Generelle IT, Software, Hardware Dienstleistung

D.01.02.01 Messtechnische Methoden und Verfahren

D.01.02.04.02 Mechanische Messgröße

D.01.02.04.04 Thermische Messgröße

D.01.02.04.05 Kalorische Messgröße

D.01.02.04.09 Bildverarbeitungs-Größe

D.01.02.04.10 Akustische Messgröße

D.01.02.04.11 Elektrische oder magnetische Messgröße

D.01.02.04.12 Chemische Messgröße

D.01.02.04.13 Biologische Messgröße

D.01.02.04.14 Medizinische Messgröße

D.01.02.04.16 Gaskonzentration

D.01.02.04.19 Fernes Infrarot (FIR)

D.01.02.07.02 Aktives Bauelement

D.01.02.07.04 Halbleiter

D.01.02.07.06 Analoge Schaltung/ASIC

D.01.02.07.07 Analog/Digital-Wandler

D.01.02.07.08 Digital ASIC

D.01.02.07.09 Mixed-Signal ASIC

D.01.02.07.10 Elektronisches Sensorinterface

D.01.02.07.11 FPGA-Design

D.01.02.07.12 LF/HF-Transmitter/Receiver

D.01.02.07.14 Machine-to-Machine-System, M2M-System

D.01.02.07.15 Datenlogger Diagnose System

D.01.02.08.01 Dickschichttechnologie

D.01.02.08.02 Dünnschichttechnologie

D.01.02.08.07 CMOS-Technologien oder Technologieschritte

D.01.02.08.08 Mikrostrukturierung auf bzw. von Silizium

D.01.02.08.09 Mikrosystemtechnik, MST

D.01.02.08.10 Mikrostrukturierung auf bzw. von anderen Materialien (Glas, Keramik, Metalle, Polymere)

D.01.02.08.11 Lithographieentwicklung (Elektronen-, UV-, Röntgen-Lithographie)

D.01.02.08.12 Galvanik, Entwicklung

D.01.02.08.13 Plasma-/Oberflächentechnik

D.01.02.08.17 Mikrooptik, integrierte Optik

D.01.02.08.19 Aufbau- u. Verbindungstechnik, Packaging

D.01.02.08.21 Mikrofluidik

D.01.02.08.22 Fotoresist-Prozessierung

D.01.02.08.23 Fotomaske

D.02.03 Dünnschicht-Technologie

D.02.04 Halbleiter-Technologie

D.02.06 CMOS-Technologie

D.02.11 Mikrosystemtechnik MST

D.02.12 Mikrosensorik

D.02.20 Nanotechnologie

D.02.29 Galvanik, Auftragsfertigung

D.02.41 Sensorik, spezifisch

D.02.42 Aktorik, spezifisch

D.02.43 Prototypfertigung

D.02.46 Chemosensoren

D.02.49 Foto- und Prägelithografie

D.02.51 Mehrfachbeschichtung, Multilayer-Beschichtung

D.04.15 Technologieberatung

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